切片・細胞の培養チャンバー内のバッファーの温度を正確に制御します。ポンプから送られる灌流液をまずチューブ系路の途中で制御し、再度、ニードル先端で、０.５℃/秒の応答速度で素早く正確に再制御します。また、本装置では、チャンバー内の温度を測定し、設定温度にコントロールする３ポイント温度制御機能で最適な培養環境が可能です。実験の目的に応じて、様々な温度センサー、ヒーターと組み合わせご利用ください。

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